前台灣美光員工竊取技術投靠 相關人等與聯電皆遭起訴

前台灣美光何姓與王姓員工，涉嫌攜帶機密技術到晶圓廠聯電 (2303-TW)，台灣美光向檢方報案，台中地檢署今 (6) 日起訴何男、王男、戎男與聯電。聯電晚間公告指出，至目前為止尚未接到相關起訴書，待收到起訴書後，將配合司法程序，委託律師處理，以維護公司權益。

聯電表示，公司對維護營業秘密，一向不遺餘力，客觀上已符合現行實務避免侵害他人營業秘密措施，台中地檢署對此案採取的認定標準，是否符合現行實務，尚待法院依法檢驗。

台中地檢署在起訴書中表示，原任職台灣美光的何姓與王姓男子，跳槽到聯電，涉嫌將美光製造 DRAM 的技術，洩漏給聯電。

起訴書指出，聯電在 2016 年 1 月，與中國晉華電路簽署協議，進行 32 奈米 DRAM 製程開發，由晉華提供 3 億美元採購設備，依進度支付聯電 4 億美元，成果雙方共有，技術完成後產品將在晉華生產，聯電隨後在南科成立新事業發展中心，成立專案處，招募何男與王男，另外戎男則擔任專案技術二處協理。

何男原本擔任台灣美光量產整合部課長，曾登入公司電腦伺服器，複製至自己擁有的隨身碟與個人硬碟，並持有美國美光營業秘密紙本資料，跳槽到聯電後擔任經理，何男將其攜帶資料，用聯電公用筆電讀取美光電磁紀錄，並將紙本資料帶到聯電廠區使用。

王男原任台灣美光品質工程部副理，利用副理職務讀取美國美光以營業秘密與著作保護的 DRAM 製造方法，並下載至筆電，隨後到聯電任職，而當時擔任協理的戎男，要求王參考資料，與聯電設計規則交互比對，最後完成設計規則。

台中地檢署今日起訴何男、王男、戎男與聯電。