台積電、三星EUV需求量強！ASML訂單火熱

《巴倫》報導，晶片設備供應商艾司摩爾 ASML (ASML-US) 的表現，可能要比大多數人想像的要好，瑞士信貸 (CS-US) 分析師 Farhan Ahmad 即認為，艾司摩爾的產品是晶片製造商台積電 (2330-TW) 與競爭對手三星電子 (005930-KR) 爭奪霸主地位的關鍵要素，估計可以在鷸蚌相爭中，漁翁得利。

《巴倫》報導顯示，Ahmad 於 1 月份便把艾司摩爾股價評級調高至「優於大盤」，Ahmad 並特別指出，「最近對 EUV 工具（極紫外光刻 Extreme UV，EUV) 的謠言眾多。我們的調查表明，EUV 的前景並不是減弱，而是增強。ASML 有望其 2019 年 EUV 產量訂單全滿」。

他指出，台積電「在 4 月 2 日向 ASML 和 Lasertec 下了大約 10 億美元的訂單」，認為「很可能在第 1 季度財報上顯示為 6 至 8 種工具的訂單量」。

Ahmad 寫道：

「三星繼續在 EUV 上砸重本。最近的資料顯示，除了 7 納米外，三星可能會在 10 納米級 DRAM 的部份製造上採用 EUV 進行。

 

因三星計劃用 EUV 製造低風險 DRAM，DRAM 的產品產出有望早於 7 奈米出爐，這也是為了擴大 7 奈米生產全面使用 EUV 的計劃之一」。

三星正行銷其設計靈活性、更短的周期時間、及更小的模具，作為 7 奈米製程的獨特優勢。三星也正在建設一個由 DRAM 和 Logic 共享的 38 臺 EUV 工具的 EUV 專用工廠」。

Ahmad 認為台積電「可能需要加快 5 納米的腳步，以確保與三星的競爭力」。5 納米技術將是 ASML 在台積電的 EUV 真正發光的時期。Ahmad 繼續寫道：

「台灣有報導稱台積電客戶對 7 奈米的興趣不高。這是可以理解的，因為 7 奈米不能提供與 EUV 單一圖案化相關的設計靈活性，而其 EUV 製程只被用於裁焊 VIA 孔（無需改變設計）。

 

同時，7 奈米本預計為在廣泛使用 EUV 製程的 5 奈米（真正的 7 奈米）節點前的試車前奏。

 

我們一直堅持認為 7 奈米的採用可能僅限於少數幾層晶片上，並且僅限於一部分容量而已。我們預計台積電將在 2019 年初開始生產 7 奈米產品，並準備在 2020 年量產 5 奈米。

 

為了滿足產能需求，台積電需要在 2019 年開始安裝相關工具機台。我們認為 ASML 最近的工具訂單是來自於台積電，也表示台積電正在努力加強其 5 納米計劃」。