英特爾啟動D1X工廠30億美元擴建計畫 加快製程技術研發腳步

英特爾 (INTC-US) 周一 (11 日) 宣布啟動美國奧勒岡州 D1X 工廠的擴建計畫，以加快技術研發，重奪在半導體產業的領先地位。

D1X 是英特爾晶片技術研發的重要據點，幾乎所有先進製程開發作業都位於此地。該公司在 D1X 工廠擴建計畫上斥資 30 億美元，擴建面積 27 萬平方英尺，將使工廠規模增加 20%。

英特爾高級副總裁 Sanjay Natarajan 表示，D1X 實際上是一座巨型實驗室，擴建後將更有能力研發多種製造方法，並在全球其他工廠複製這種生產模式。

半導體製程技術的進步，主要由工藝節點來衡量，英特爾近年來遭遇技術瓶頸，代工生產方面表現遠落後台積電 (2330-TW)(TSM-US) 和三星電子 (Samsung Eletronics) 等競爭對手，並讓後兩者的客戶如輝達 (NVDA-US) 和 AMD(AMD-US) 得以推出更具競爭力的產品，進而打壓英特爾的獲利空間並限制成長。

作為 IDM2.0 策略的一部分，英特爾致力於強化晶圓代工領域發展，盼能跟上競爭對手台積電和三星電子的腳步，在 2025 年前推進五個製程節點。

英特爾執行長季辛格 (Pat Gelsinger) 此前承諾，將投資 200 億美元，在美國俄亥俄州設立兩座晶圓廠，並在未來十年內砸下 800 億歐元，於歐洲打造半導體供應鏈。