《駐京專電》國產光刻機廠落地雄安?中國電子院:是高能輻射光源

　　《經濟通通訊社駐京記者黃燕明19日北京專電》近期一則消息在各大視頻平台廣為傳播,稱清華大學EUV項目把ASML的光刻機巨大化,實現了光刻機國產化,並表示這個項目已經在雄安新區落地。對此,中國電子工程設計院有限公司稱,該項目並非網傳的國產光刻機工廠,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。

　　北京高能同步輻射光源項目坐落於北京懷柔雁棲湖畔,是國家「十三五」重大科技基礎設施,它是中國第一台高能量同步輻射光源,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目在2019年開始建設、將於2025年底投入使用。

　　中國電子院稱,HEPS的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV,然後注入周長1360米的儲存環,用接近光速的速度保持運轉。電子束在儲存環的不同位置通過彎轉磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉軌道切線的方向,釋放出穩定、高能量、高亮度的光,也就是同步輻射光。HEPS可以看成是一個超精密、超高速、具有強大穿透力的巨型X光機,它產生的小光束可以穿透物質、深入內部進行立體掃描,從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界,HEPS是進行科學實驗的大科學裝置,並不是網傳的光刻機工廠。