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ASML最新高數值孔徑極紫外光刻機開始運作 已獲初步成果

鉅亨網編譯張祖仁 2024-02-28 21:12

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ASML最新高數值孔徑極紫外光刻機開始運作。(圖:REUTERS/TPG)

荷蘭半導體設備製造商 ASML (ASML-US) 周三 (28 日) 證實,其大型新型高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 光刻系統已經「初見端倪」。這是一個里程碑,代表該光刻機雖然尚未發揮全部性能,但已開始運作。

英特爾 (INTC-US) 技術開發主管凱勒赫 (Ann Kelleher) 在周二 (27 日) 於聖荷西舉行的 SPIE 光刻會議演講中首次提到這一進展。而 ASML 證實凱勒赫的言論是準確的。


光刻系統使用聚焦光束來蝕刻電腦晶片的微小電路。ASML 的高數值孔徑極紫外光工具的大小相當於雙層巴士,每具成本超過 3.5 億美元,預計將有助於實現新一代更小、更快的晶片。

第一個高數值孔徑工具位於荷蘭 Veldhoven 的 ASML 實驗室,第二個工具正在俄勒岡州希爾斯伯勒附近的英特爾工廠組裝。

包括台積電 (TSM-US) 和三星在內的先進晶片製造商預計將在未來 5 年內採用該工具。英特爾在上周活動中表示,打算在其 14A 代晶片的生產中使用該工具。

凱勒赫在演講中表示,位在荷蘭 Veldhoven 的機器已經看到「抗蝕劑晶圓上的第一道光」,意味著該機器已用於對經過光敏化學品處理的矽晶圓進行測試,以便準備接收電路圖案。

ASML 發言人表示,「近日」已經達到第一個初步里程碑。


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