光焱科技搭矽光子熱潮 3月上旬掛牌上櫃

光電檢測設備業者光焱科技 (7728-TW) 預計 3 月上旬掛牌上櫃，董事長柯歷亞今 (5) 日指出，今年隨著 CIS 檢測機台切入量產階段，加上光達 (LiDAR)、矽光子 (Silicon Photonics) 等應用領域蓬勃發展，今年營收估增雙位數，未來數年營收也將堆疊向上。

光焱科技核心技術聚焦於模擬光源、光電轉換測試及晶圓級光電檢測三大領域，利用人造光源調製技術，開發出多樣化的光源模擬器與檢測儀器，適用於科研與產業應用。

針對矽光子領域，柯歷亞表示，公司採客製化商業模式，為客戶提供專業的 PIC 晶片高精密檢測設備及現有 EIC 晶片檢測設備的升級服務，目前模擬光源以及 PIC 檢測技術具備高穩定性、量測速度快及光譜範圍廣等優勢，已被多所知名學術機構和企業廣泛採用。

光焱科技補充，採用業者涵蓋全球頂尖科研機構，如美國勞倫斯利佛摩國家實驗室 (LLNL)、及德國馬克斯 · 普朗克學會 (MPG)、美國加州大學洛杉磯分校 (UCLA)、英國牛津大學 (Oxford) 等，均有長期合作關係。

柯歷亞說，光焱科技開發的光源模擬器與光電轉換量測設備，能針對客戶的特定需求快速提供解決方案，並支持與現有產線檢測設備的升級與整合，該靈活性使客戶能在不大幅增加資本支出的情況下，進行高效、準確的光電轉換性能測試，進而縮短產品開發時間並提升品質管理能力。

為因應客戶未來需求，光焱科技也已提前布局設備產能，目前已承租新場地，預計今年產能將增加 33%，將用於投入矽光子等設備儀器，並在下半年開始貢獻營運。

此外，光焱科技在量子效率校準與檢測領域的創新突破，使其產品在晶圓級光電檢測中奪得領先地位；這些技術已成功應用於多種 PIC 元件如影像感測器 (CIS)、光達 (LiDar) 等檢測應用，並得到國內外 IC 設計公司及晶圓大廠的驗證。