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花旗 (Citi) 預計半導體三巨頭台積電 (TSM-US)、三星和英特爾 (INTC-US) 即將發表的 2026 年資本開支指引將呈積極態勢，將為全球晶圓廠設備 (WFE) 市場注入強勁動能。
該行維持半導體設備產業正處於第二階段上行周期的判斷，並認為 2026 年全球晶圓設備支出正朝著其樂觀情境下 1,260 億美元邁進，高於基準預測的 1,150 億美元。
據「華爾街見聞」，花旗在 1 月 5 日發布的報告中指出，預計台積電將把 2026 年資本開支指引設定在 460 億至 480 億美元區間，英特爾資本開支將趨於穩定，而三星則可能追隨美光的擴產步伐上調投資。三家公司合計佔花旗 2026 年全球晶圓設備支出模式的約 59%，其資本支出動向對整個半導體設備產業鏈具有風向標意義。
花旗分析師 Atif Malik 表示，三巨頭更高水準的資本支出將與更高的成長機會相關聯。該行基準模型假設 2026 年 NAND 儲存晶片設備支出成長 30%，DRAM 成長 12%，前端邏輯晶片成長 6%。
花旗預計台積電將在 1 月 15 日美股盤前公佈的財報中，將 2026 年資本開支指引設定在 460 億至 480 億美元區間，並可能在年內進一步上調。該行自身模型預測台積電 2026 年資本開支為 470 億美元，且有額外上行潛力。
根據花旗與投資人的溝通，市場對台積電 2026 年資本支出的預期約為 500 億美元。這項預期高於花旗的初步預測區間，顯示市場對台積電擴產力道持樂觀態度。
台積電在去年 10 月的財報電話會議上已將 2025 年資本開支區間從此前的 380 億至 420 億美元收窄至 400 億至 420 億美元。管理層當時表示，更高水準的資本開支始終與更高的成長機會相關聯，這為 2026 年進一步提升投資規模埋下伏筆。
花旗預計英特爾 2026 年資本支出將趨於穩定，主要受惠於代工業務特別是後端客戶管線的改善。該行模型顯示英特爾 2025 年和 2026 年資本支出分別為 180 億美元和 150 億美元，而市場預期分別為 170 億美元和 160 億美元。
英特爾預計在 1 月 22 日美股後公佈財報。該公司在去年 10 月的財報電話會議上維持 2025 年總資本開支為 180 億美元的指引，並預計 2026 年資本開支約為 160 億美元。
花旗的預測顯示，儘管英特爾 2026 年資本支出較 2025 年有所下降，但隨著代工業務客戶管線的改善，特別是後端封裝業務的成長，資本開支水準將趨於穩定而非持續大幅下滑。這對於正在推進 IDM 2.0 策略和代工業務轉型的英特爾而言是正面訊號。
花旗認為三星 2026 年資本開支存在上行空間，主要依據是競爭對手美光大幅上調了資本開支指引。三星預計將在 1 月 29 日美股盤後公佈財報，但該公司通常不會在財報電話會議上提供具體的資本開支指引。
不過，三星管理層先前表示，公司對 2026 年資本開支保持靈活態度，將根據 AI 需求的成長按需增加投資。這一表態為資本開支上調留下了空間。
花旗指出，美光在 2025 年 12 月的財報電話會議上將 2026 財年 (截至 2026 年 8 月) 淨資本開支從此前的 180 億美元上調至 200 億美元，同比增長 45%，其中建設資本開支幾乎翻倍。美光也表示 2027 財年資本開支也將持續成長。
美光的大幅擴產舉措可能促使三星採取相應行動以維持市場地位。花旗認為三星的資本開支決策將與美光的表態一致。
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