半年只賣9台光刻機拚突圍！Nikon強攻中國特色服務 硬槓美日出口管制

在上海舉行的 SEMICON China 2026 展會上，日本光學巨頭尼康（Nikon）成為焦點。面對全球半導體設備市場劇變，尼康宣布加大對中國市場投入，並提高設備供應優先順序。此舉不僅被視為其在業務低迷下的自救策略，也被解讀為藉中國市場缺口，正面挑戰美國出口管制、力圖重返產業高峰的關鍵布局

回顧尼康近年來的財報，這家曾經的光刻機霸主正經歷著前所未有的陣痛。最新數據顯示，尼康在過去半年內全球僅銷售了 9 台光刻機，且全數集中在成熟製程產品。與此形成鮮明對比的是，荷蘭巨頭 ASML 在 2025 年創下了 535 台的銷量紀錄，其中高價值的 EUV 與 DUV 光刻機佔據絕大部分。

此外，尼康精密設備業務的年度營業利潤暴跌近 90%，僅剩 15.44 億日元。這種獲利能力與市佔率的巨大落後，迫使尼康必須在戰略上做出極端且具突破性的改變。

尼康的輝煌歷史曾讓其在全球市場叱吒風雲。上世紀 80 年代，尼康憑藉著日本政府推動的 VLSI 計劃，成功仿製並超越了美國 GCA 公司，奪得全球霸主地位。當時尼康不僅在技術指標上追平美國，更開創了「保姆式」的客戶服務模式，為每台設備配備專屬工程師。

然而，技術路線的選擇錯誤成為了尼康的轉折點。當 ASML 選擇與台積電林本堅合作開發浸潤式技術時，尼康執著於傳統乾式路線的硬體升級，最終導致在 193nm 波長以下的競爭中全面潰敗。

硬槓美國制裁 豪賭中國市場戰略機遇

隨著美國對中國半導體產業的出口管制不斷加碼，ASML 被禁止向中國出口最先進的 EUV 及部分浸潤式 DUV 設備，這在中國市場留下了巨大的供應真空。尼康敏銳地察覺到，這正是其重振旗鼓的最佳契機。

雖然美國政府持續敦促日本協同封鎖，但由於尼康的光刻機技術體系中，美國技術占比極低，難以觸發「最小比例原則」的強制封鎖。這讓尼康擁有比 ASML 更大的靈活性來繞過制裁。

在本次展會中，尼康明確表示將為中國市場提供一系列「特色服務」。首先是放開二手 i 線設備與 DUV 光刻機的銷售，這對於正處於產能擴張期的中國成熟製程晶圓廠而言，無疑是及時雨。

其次，尼康承諾提供特定的技術升級與移機服務，這意味著現有的中國客戶可以透過尼康的原廠技術，延長舊款設備的生命週期並提升性能。這種全流程、深層次的技術支援，實質上是在幫助中國企業建立更穩定的供應鏈。

降級平台與乾式 DUV 的反擊

尼康針對中國市場最核心的「武器」，莫過於其最新發表的乾式 DUV 光刻機 NSR-S333F。這款設備的研發邏輯極具戰略眼光：它是基於尼康旗艦級浸潤式光刻機 NSR-S636E 的技術平台，進行「降級」打造而成的產品。

雖然是一款乾式設備，但由於繼承了先進平台的機械結構與對準系統，其套刻精度（Overlay）達到了驚人的 ≤ 4nm。

與中國國產的乾式 DUV 設備相比，尼康的 NSR-S333F 在光源波長與解析度上雖然不相上下，但在商業化成熟度與套刻精度上具有明顯優勢。這款設備廣泛適用於邏輯晶片、儲存晶片以及影像感測器的生產。

尼康預計於 2025 年底接受訂單，並於 2026 年下半年交付。這種利用先進平台優勢降維打擊成熟市場的做法，清晰展現了尼康試圖在 ASML 無法觸及的領域奪回主導權的野心。

尼康的戰略能否成功，取決於其能否在美日政治壓力下長期保持供應鏈的穩定。尼康在上海展台的公開表態，本質上是一場商業豪賭：透過深度綑綁中國市場，利用龐大的市場規模帶動其精密設備業務的現金流與利潤回升，進而反哺其技術研發，試圖在下一代半導體設備競賽中重新獲得話語權。