台積電不急買高階設備！ASML市值一度蒸發逾140億歐元

《華爾街日報》(WSJ)周四 (23 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML) 股價在歐洲盤中下跌約 3%，市值一度蒸發約 143 億歐元 (約 168 億美元)，主因台積電(2330-TW)(TSM-US) 表態暫無計畫採購其最先進的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光設備，市場對高階製程設備需求前景出現疑慮。

根據《彭博》報導，台積電共同營運長張曉強 (Kevin Zhang) 表示，公司新一代 A13 製程節點並不需要導入 High-NA EUV 設備，主要考量在於成本過高。此一說法使市場對該類高階機台短期需求的成長預期降溫，也對半導體族群近期的樂觀情緒形成壓力。分析人士指出，相關消息傳出之際，那斯達克指數才剛創下歷史新高，顯示市場原本對 AI 與晶片需求抱持高度信心。

截稿前，艾司摩爾 (ASML-US) 歐洲上市股價下跌 2.564%，每股暫報 1,216.80 歐元；美股 ADR 周四盤前下跌 1.63%，每股暫報 1,420.19 美元。

艾司摩爾生產的光刻機為晶圓製造關鍵設備，廣泛應用於台積電與三星電子等晶片製造商，用於在矽晶圓上刻印精密電路。該公司先前強調，High-NA EUV 設備可進一步提升製程效率與精度，被視為推進先進製程的重要工具。然而，台積電此次釋出的訊號，顯示即便是最領先的晶圓代工廠，對新世代設備的導入節奏仍趨於審慎。

瑞銀分析師指出，此發展對艾司摩爾而言屬於「溫和利空」，可能影響市場對 High-NA EUV 需求成長速度的預期。報告認為，台積電若延後採用，將使投資人重新評估該設備的商業化時程。不過，這也可能為其他晶圓代工或邏輯晶片業者創造機會，提前導入相關技術以與台積電形成差異化競爭。

花旗 (C-US) 則表示，張曉強此次發言與 2024 年及 2025 年的立場一致，顯示台積電對於 High-NA EUV 設備的態度並未出現重大轉變。艾司摩爾方面則未對此發表評論。

整體而言，市場對於高階半導體設備需求的時程與節奏，可能隨主要客戶策略調整而出現變化，也為相關供應鏈的成長預期增添不確定性。