鉅亨網編譯陳韋廷
中國DRAM大廠長鑫科技今年第二季繳出亮眼成績單,息稅前利潤率攀升至82%,一舉超越SK海力士的76%、三星電子半導體業務的70%,以及美光科技等主要同業,登上該季全球獲利率最高的記憶體晶片企業寶座。
不僅如此,長鑫科技今年Q2營收年增率約1000%,在長鑫、三星、SK海力士、美光、鎧俠與閃迪六家企業中增速稱冠。相關數據來自QUICK FactSet與企業揭露。
然而,在獲利領跑的同時,長鑫的先進製程推進卻面臨考驗。韓媒報導指出,這家中國最大DRAM廠已啟動第四代高頻寬記憶體HBM3試產,初期良率卻遲遲無法突破,僅停留在25%水準,相當於四顆中有三顆是廢品,遠低於半導體業公認80%的量產黃金線。相較之下,SK海力士自2022年量產同類HBM3產品,良率已超過90%,雙方差距懸殊。
報導將問題根源指向TSV矽通孔技術,直言長鑫用於HBM的G4製程所生產的一般DRAM本身並無大礙,真正的瓶頸在於TSV。該技術須在DRAM晶片堆疊時,於每一層鑽出數千個微米級小孔並填入銅,以實現垂直電氣連接,孔洞一旦偏移或填充不完整,整層晶片即告報廢。
業界數據顯示,長鑫每顆晶片TSV數量約3000個,而三星HBM2超過5000個、SK海力士HBM3則逾8000個,韓媒據此強調韓廠在TSV工藝上的領先地位。
業內人士也表示,TSV的工藝訣竅非一朝一夕可累積,三星與SK海力士已握有4至5年的優勢。
但韓媒亦坦言,長鑫正將少量HBM樣品供應給寒武紀等中國企業,在持續改善良率之際穩步推進商業化進程。
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