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〈熱門股〉光罩爆量周漲23.7% 創兩個月來新高

鉅亨網記者魏志豪 台北

台積電(2330-TW)(TSM-US)本周宣布與艾司摩爾(ASML-US)共同推進High NA EUV技術與12吋光罩,並點出曝光的光罩層數會同步增加,隨著光罩消耗產能增加,也引發外界對於擴大外包既有製程光罩的想像,推升台灣光罩(2338-TW)本周股價強漲23.7%,創下兩個月來新高。

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台灣光罩示意圖。(鉅亨網資料照)

台積電過去曾多次指出,ASML High NA EUV技術成本高昂。業界指出,由於ASML現階段採用6吋光罩,單次光罩的曝光面積相對有限,但現階段隨著晶片尺寸越變越大,須採用兩張6吋光罩進行拼接,也導致產量與時間受限。


不過,台積電與ASML共同宣布,將在後續導入12吋光罩,可望進一步滿足市場對面積更大晶片的需求,同時產出也將進一步提升,台積電更一改過往態度,直接宣布將於2030年起在先進製程中導入High NA EUV技術,並計畫在2031年前建立12吋光罩的試產線,為2033年12吋光罩的High NV EUV量產奠定基礎。

隨著台積電擴大12吋High NA EUV光罩的布局,市場看好,在尺寸變大、曝光層數增加情況下,對光罩產能消耗將增加,有機會擴大外包效應,而光罩原先即是台積電外包光罩的供應商,本周在資金提前卡位下,股價強漲23%,明顯優於大盤表現,不過,業界也提醒,仍須留意後續實際的外包效應以及營運動能。觀察三大法人動向,外資逢高出貨2,187張,自營商則小買13張。

光罩日K線圖

 


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