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微影





    2024-03-19
  • 歐亞股

    ASML已交付第三代EUV 可用於製造2nm晶片

    半導體設備大廠 ASML(艾司摩爾) 近日交貨第三代標準型極紫外 (EUV) 光微影設備 (光刻機),設備型號為 Twinscan NXE:3800E,配備了 0.33 數值孔徑透鏡。 相較於之前的 Twinscan NXE:3600D,效能有了進一步的提高,可以支援未來幾年 3 奈米及 2 奈米晶片的製造。