曝光機

09-09國際政經

荷蘭政府上周五（6 日） 以國安風險為由，公布新的出口管制規定，擴大半導體設備大廠 ASML 的出口限制，中國商務部對此在周日發表聲明，表示堅決反對。根據荷蘭政府於上周六生效的新規定，ASML 現在需要向政府申請出口許可，才能向中國提供 2 款深紫外線曝光機（DUV）。

05-08

據韓媒《TheElec》報導，ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單，已經由英特爾 (INTC-US) 買下，包括今年計畫生產的五套設備，將全部運給這家美國晶片製造商。消息人士表示，由於 ASML 高數值孔徑 EUV 設備的產能約為每年 5 至 6 台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。

04-17歐亞股

受到晶片製造業對其最先進機器的需求下滑影響，半導體設備製造龍頭艾司摩爾 (ASML) 公布的新訂單成績，未能達到分析師預期。ASML (ASML-US) 周三 (17 日) 公布第一季財報，財報顯示，ASML 第一季淨銷售額年減 21.6% 至 52.9 億歐元，低於預期的 54.7 億歐元，淨利潤年減 37.4% 至 12.2 億歐元，超出預期的 10.7 億歐元，新訂單為 36.1 億歐元，不及預期的 46.3 億歐元。

03-28大陸政經

在美國政府要求盟友停止向中國晶片製造商提共設備之際，中國商務部長王文濤周三（27 日）在北京會見荷蘭外貿大臣范呂文，雙方重點就曝光機輸華、加強半導體產業合作等議題深入交換意見。據《財聯社》周四報導，王文濤表示，今年是中荷建立開放務實的全面合作夥伴關係十周年。

12-22歐亞股

據南韓科技媒體 SamMobile 報導，半導體製造設備大廠 ASML 將在未來幾個月內推出生產 2 奈米晶片的設備，且數值孔徑（NA）光學性能從 0.33 提高到 0.55。據《芯榜 +》報導，相較於 DUV 浸入式曝光系統（193nm），EUV 曝光系統使用的極紫外光波長（13.5nm）顯著降低，多圖案 DUV 步驟可以用單次曝光 EUV 步驟代替，有助於晶片製造商繼續向 7 奈米及以下更先進製程工藝推進，進一步提升效率，降低曝光成本。