光刻

10-30美股雷達

美新創Substrate宣布光刻新技術 ASML與台積電迎巨大挑戰

美國半導體新創公司 Substrate 28 日宣布，已成功開發出一款新型晶片製造設備，聲稱其技術可媲美甚至挑戰荷蘭巨頭 ASML(ASML-US) 的最先進光刻系統。這項突破性進展若得以實現，將可望重塑全球晶片製造格局，並為美國重奪半導體產業領導權提供關鍵輔助。

09-19美股雷達

輝達入股英特爾最大贏家浮現？美銀大幅上調「這檔」目標價

輝達 (NVDA-US) 宣布投資英特爾 (INTC-US) 投資 50 億美元，並建立廣泛的合作夥伴關係，此項重大合作將帶動相關供應鏈，其中半導體光刻設備巨頭艾司摩爾 (ASML-US) 可望受惠最大，美銀大幅上修其目標價，從 724 歐元大幅上調至 941 歐元。

01-06科技

LLNL開發次世代紫外線微影平台 效率大增

媒體報導，美國勞倫斯利弗莫爾國家實驗室 (LLNL) 正在領導一項研究合作夥伴關係，目標是開發下一代極紫外 (EUV) 光刻技術。這項名為「極紫外光刻與材料創新中心」(ELMIC) 的合作項目，獲得了美國能源部 1.79 億美元的資助，旨在推動新材料和製程整合到未來微電子系統的基礎科學進展。