高數值孔徑極紫外光
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ASML最新高數值孔徑極紫外光刻機開始運作 已獲初步成果
荷蘭半導體設備製造商 ASML (ASML-US) 周三 (28 日) 證實，其大型新型高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 光刻系統已經「初見端倪」。這是一個里程碑，代表該光刻機雖然尚未發揮全部性能，但已開始運作。英特爾 (INTC-US) 技術開發主管凱勒赫 (Ann Kelleher) 在周二 (27 日) 於聖荷西舉行的 SPIE 光刻會議演講中首次提到這一進展。