Substrate

05-30美股雷達

挑戰台積電與ASML！美國新創Substrate押注X射線微影、技術成本僅High-NA EUV十分之一

美國新創公司 Substrate 宣稱已突破 X 射線微影技術瓶頸，以五千萬美元工具成本挑戰艾司摩爾 (ASML-US) 五億美元的高數值孔徑 EUV 曝光機，並揚言直接與台積電 (2330-TW) 、三星競爭晶圓代工市場。在半導體製造的數百道工序中，微影技術始終居於核心地位。