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三星李在鎔訪ASML取得額外EUV設備 追趕台積電

鉅亨網記者林薏茹 台北
三星李在鎔訪ASML取得額外EUV設備 追趕台積電。(圖:AFP)
三星李在鎔訪ASML取得額外EUV設備 追趕台積電。(圖:AFP)

據外媒報導,三星電子副會長李在鎔此次歐洲行,到荷蘭艾司摩爾 (ASML) 總部拜訪執行長 Peter Wennink ,並取得額外的極紫外光 (EUV) 微影設備;市場認為,EUV 設備對下一代半導體生產至關重要,三星積極確保穩定供應,要在先進製程上追趕台積電 (2330-TW)(TSM-US),重奪龍頭寶座。

南韓媒體《BusinessKorea》報導,三星電子 15 日表示,李在鎔於當地時間 6 月 14 日,會見 Peter Wennink 與艾司摩爾技術長 Martin van den Brink 等高層。

三星電子表示,雙方就未來半導體技術、半導體市場前景、EUV 微影設備供應及中長期業務發展進行討論,不過,三星並未透露所取得額外 EUV 設備的相關細節。

艾司摩爾每年生產約 40 台 EUV 設備,2020 年出貨 31 台,2021 年 42 台,今年原訂生產約 50 台,但受零組件短缺而拖累進度。分析師預估,三星今年可取得 18 台 EUV 設備,高於去年的 15 台及 2020 年的 8 台。

隨著台積電、三星及英特爾 (INTC-US) 先進製程大戰開打,EUV 需求大增,下世代 High-NA EUV 設備精密度更高、設計零件更多,估計每台要價 4 億美元。去年第四季艾司摩爾在手訂單有 5 台,今年初英特爾也下訂,預計 2025 年交貨。

李在鎔此行與拜訪 Peter Wennink 前,也與荷蘭總理 Mark Rutte 會面,討論展開合作,強化半導體晶圓代工能力,探討如何解決全球半導體供應鏈問題,並要求 Rutte 提供支援,確保艾司摩爾能穩定供應 EUV 微影設備。
 

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