【大國博弈】日本限晶片設備出口未有定論,稱會參考荷蘭政府做法

　　《經濟通通訊社10日專訊》光刻機巨頭艾司摩爾(ASML)總部所在國荷蘭目前已禁止極紫外光(EUV)光刻機對華出口,並考慮進一步將限制範圍擴大至更低一檔的浸沒式DUV光刻機。至於另一個半導體設備主要出口國日本,其經濟產業大臣西村康俊最新表示,日本尚未就限制晶片製造設備出口作出決定,將根據荷蘭方面的發展考慮適當的措施。

　　此前有報道指,美國、日本及荷蘭三國高層今年1月下旬在華盛頓就半導體議題達成協議,日本將跟隨美國和荷蘭,限制向中國出口高端晶片生產設備。(ey)