美產業CEO示警：中國晶片設備自主化提速 美國需防範「致命影響」

近期，美國半導體界對中國在先進微影 (光刻) 技術上的快速進展表達了高度關注。美國微影設備公司 Substrate 創辦人兼執行長 James Proud 在接受媒體採訪時嚴厲指出，美國若低估中國的半導體研發實力，將面臨巨大的戰略風險。

Proud 強調，最新的報告顯示中國已開發出某種先進光刻機的作業原型，這在業界引發震撼。他警告，光刻機是半導體供應鏈中最核心的環節，一旦中國成功破解這項技術，剩餘的供應鏈將能輕易實現全面國產化，這對美國半導體產業而言將是「致命性」的威脅。

他進一步指出，中國擁有一群極其聰明的科學家與工程師，許多人曾在 ASML 等西方公司工作，隨後帶著經驗回流中國，這場「人才戰爭」與腦力流失是不容忽視的現狀。

面對美國的出口管制，中國政府正傾力扶持本土產業。透過「國家大基金三期」的資金投入，重點攻克 EUV 光刻機產業鏈問題。

政策層面除了提供最高 50% 的研發補貼外，還大幅減免相關企業的所得稅與關稅。數據顯示，這種「自立自強」的路線已見成效：在成熟製程領域，中國國產光刻機的滲透率已達 60%；在封裝光刻機市場，其佔有率更高達 90%。

Proud 認為，美國目前的禁令政策僅是「防禦」，若要維持領先，必須制定「跨越式發展」的進攻策略，以重新奪回領導地位。

他的公司 Substrate 目前正研發利用粒子加速與 X 射線波長進行晶圓蝕刻的技術，旨在確保美國即使不依賴 ASML 或台灣生產的晶片，也能維持技術優勢。

Proud 強調，雖然仍有許多挑戰待克服，但絕不能打賭中國「做不到」，美國必須專注於其擅長的「衝刺」能力，加速技術創新以應對挑戰。