鉅亨網編譯陳又嘉
據《路透》報導，艾司摩爾 (ASML Holding)(ASML-US) 一名高層表示，該公司次世代晶片製造設備已準備好供製造商開始啟動量產，對晶片產業而言是一大重要里程碑。
這家荷蘭公司生產全球唯一商用的極紫外光微影 (EUV) 設備，為晶片製造商的關鍵核心設備。ASML 數據顯示，這款新設備將協助台積電 (2330-TW)(TSM-US) 與英特爾 (Intel)(INTC-US) 等晶片廠，透過簡化多個昂貴且複雜的製程步驟，生產更強大且更高效的晶片。
ASML 技術長 Marco Pieters 周三向路透表示，公司計劃在周四於聖荷西 (San Jose) 舉行的技術會議上公布這些數據，象徵一項關鍵里程碑。
開發這套昂貴的次世代設備歷時多年，期間晶片製造商一直在評估何時開始導入量產在經濟上才具合理性。
但隨著現有世代 EUV 設備在製造複雜 AI 晶片方面逐漸逼近技術極限，次世代機台——稱為 High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光) 設備——對 AI 產業至關重要，可協助提升如 OpenAI 的 ChatGPT 等聊天機器人的能力，也讓晶片廠能按計畫推出 AI 晶片，以滿足快速飆升的需求。
這些新設備單價約 4 億美元，是初代 EUV 機台的兩倍。
Pieters 表示，ASML 數據顯示，High-NA EUV 設備目前停機時間有限，已生產出 50 萬片如餐盤大小的矽晶圓，並能繪製足夠精細的圖案以形成晶片電路。這三項數據綜合顯示，設備已具備供製造商使用的成熟度。
他指出，「我認為現在正處於一個關鍵時機，可以檢視已完成的學習循環量。」他所指的是客戶對設備進行的測試次數。
儘管技術上已準備就緒，但企業仍需 2 至 3 年時間進行足夠的測試與開發，才能將其整合至實際製造流程中。
Pieters 表示，「(晶片製造商) 已具備驗證這些設備所需的全部知識。」
他也指出，目前設備的可用率約達 80%，公司目標在年底前提升至 90%。ASML 即將公布的成像數據，足以說服客戶以單一道 High-NA 製程，取代舊世代設備所需的多個步驟。設備已處理的 50 萬片晶圓，也讓公司得以排除許多初期問題。
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