euv
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據《TrendForce》報導指出,隨著中國尋求減少對西方極紫外光 (EUV) 微影系統等晶片製造機器的依賴,該國正積極將現有的深紫外光 (DUV) 技術推向極限。據媒體早前報導,與華為相關的新凱來 (SiCarrier) 可能透過其自對準四重圖案化 (SAQP) 技術,實現中國國內的 5 奈米晶片生產。
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據《路透》引述知情人士透露,三星電子已推遲爲其即將在德州開設的工廠接收 ASML(ASML-US)(艾司摩爾) 晶片製造設備,因為三星這一計畫尚未贏得任何主要客戶。知情人士表示,三星還推遲向一些其他供應商下達訂單,用於其在泰勒市價值 170 億美元的工廠,這促使這些供應商尋找其他客戶,並將部署在現場的員工送回國內。
2025-03-27
2024-10-18