光刻機
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ASML執行長：美國料將加大施壓力道 對陸實施更多晶片出口限制
生產全球最先進半導體製造設備的荷蘭光刻機公司艾司摩爾 (ASML-US) 執行長 Christophe Fouquet 最新預測，美國進一步限制半導體技術銷售至中國的壓力將會增加，並稱這一問題的關鍵是何者對荷蘭跟歐洲有利。此前有報導指出，美國正嘗試施壓荷蘭，俾使荷蘭對中國獲得半導體技術加強限制。
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荷蘭政府擴大出口管制 限制兩款舊型DUV系統銷往中國
荷蘭政府周五 (6 日) 發布新的出口管制規定，以國家安全風險為由，擴大 ASML 的出口限制。根據將於 9 月 7 日生效的新規定，ASML 現在需要向荷蘭政府而不是美國政府申請出口許可證，才能向中國出口其舊型號的深紫外光微影 (DUV) 系統。
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買最多生產設備、擴廠全球最快 中國晶片產能持續飆升
媒體報導，在全球地緣政治搖擺不定的狀態之下，半導體產業也迎來新一輪的產能比拼，各國都在瘋狂新建或擴建晶圓廠。近期數據顯示，儘管受到美國禁令限制，中國在晶片建廠、生產的規模上居於領先。一、買最多光刻機根據海關數據，2023 年中國與荷蘭之間貿易總金額為 1072 億歐元，而雙方最大宗的商品就是光刻機。
韓媒：ASML最先進EUV設備 今年產能全由英特爾買下
據韓媒《TheElec》報導，ASML 截至明年上半年絕大部分高數值孔徑 EUV 設備的訂單，已經由英特爾 (INTC-US) 買下，包括今年計畫生產的五套設備，將全部運給這家美國晶片製造商。消息人士表示，由於 ASML 高數值孔徑 EUV 設備的產能約為每年 5 至 6 台，這意味著英特爾將獲得所有初始庫存。
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ASML已交付第三代EUV 可用於製造2nm晶片
半導體設備大廠 ASML(艾司摩爾) 近日交貨第三代標準型極紫外 (EUV) 光微影設備 (光刻機)，設備型號為 Twinscan NXE:3800E，配備了 0.33 數值孔徑透鏡。 相較於之前的 Twinscan NXE:3600D，效能有了進一步的提高，可以支援未來幾年 3 奈米及 2 奈米晶片的製造。
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ASML最新高數值孔徑極紫外光刻機開始運作 已獲初步成果
荷蘭半導體設備製造商 ASML (ASML-US) 周三 (28 日) 證實，其大型新型高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 光刻系統已經「初見端倪」。這是一個里程碑，代表該光刻機雖然尚未發揮全部性能，但已開始運作。英特爾 (INTC-US) 技術開發主管凱勒赫 (Ann Kelleher) 在周二 (27 日) 於聖荷西舉行的 SPIE 光刻會議演講中首次提到這一進展。