極紫外光
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荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾(ASML)最新公佈第三季獲利優於預期。執行長Christophe Fouquet表示，受人工智慧投資規模與持續時間驅動，客戶正持續上修中短期設備需求，部分客戶甚至表達希望預訂 2029 年乃至 2030 年的極紫外光(EUV)微影設備訂單。
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全球半導體設備龍頭艾司摩爾(ASML-US) 指出，部分客戶已開始表達對2029年、甚至2030年下單採購關鍵半導體設備的興趣，顯示人工智慧（AI）投資熱潮帶動的晶片需求，正進一步延伸至未來數年。艾司摩爾第三季獲利優於市場預期，也為關注其長期成長動能的投資人帶來支撐。
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艾司摩爾(ASML-US)與光學合作夥伴蔡司(Carl Zeiss)的工程師，在一篇同儕審查論文中指出，接替目前最先進曝光機的「Hyper NA」技術，可能約十年後準備就緒，可印製更微小的晶片電路，並沿用大量既有技術，但仍有挑戰待克服。據《路透》周四(8日)報導，艾司摩爾已開始研發Hyper NA，但尚未承諾投入生產，也未立即回應置評要求。
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荷蘭半導體設備龍頭艾司摩爾 (ASML-US) 在人工智慧 (AI) 晶片需求推動下，既有極紫外光 (EUV) 微影設備產能已接近售罄至2027年，台積電、三星及SK海力士也陸續確定採用新一代High NA EUV設備，進一步鞏固ASML延續至2030年代的市場主導地位。
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據《路透》與相關調查指出，位於深圳一座由中央科技委員會管理的保密設施內，首台全國產化的極紫外光曝光機 (EUV) 原型機已成功啟動，並穩定產生 13.5 奈米波長的極紫外光。報導稱，此進展意味著中國已在 EUV 技術鏈路上，從光源、光學系統到真空腔體實現初步貫通。
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基於多項新興技術陸續崛起，全球尖端晶片的製造方式，最快可能在 2030 年前迎來重大變革。隨著人工智慧（AI）技術熱潮持續延燒，市場對尖端晶片的需求居高不下，然而全球先進晶片的供應，長期以來仍受限於少數幾家公司所掌握的關鍵技術與產能。根據《富比士》報導，雖然極紫外光（EUV）微影技術是目前業界製造最先進晶片的主流方案，但這並非是將微小電晶體「繪製」於矽晶圓上的唯一途徑。
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據《路透》報導，艾司摩爾 (ASML Holding)(ASML-US) 一名高層表示，該公司次世代晶片製造設備已準備好供製造商開始啟動量產，對晶片產業而言是一大重要里程碑。這家荷蘭公司生產全球唯一商用的極紫外光微影 (EUV) 設備，為晶片製造商的關鍵核心設備。