今年資本支出 台積電維持高檔 金額被英特爾超越

根據 IC Insights 統計，今年全球半導體資本支出持續成長，估總金額為 723 億美元，年成長 6%，台積電 (2330-TW) 去年資本支出約 102.5 億美元，今年估達 100 億美元，小幅減少 2%；英特爾 (INTC-US) 今年資本支出持續增加，估達 120 億美元，較去年 96 億美元增加 25%，超越台積電。

以今年資本支出金額來看，台積電將被英特爾擠掉，從去年第 2 名，下滑到今年的第 3 名。三星仍以 125 億美元居冠，年增 11%。

IC Insights 統計，今年全球共有 11 家半導體廠資本支出金額超過 10 億美元，較 2013 年增加 3 家，代表整體半導體產業持續往高度資本密集方向發展，進入門檻愈來愈高。

以去年來看，台積電資本支出金額 102 億美元，年增 27%，資本支出金額排名第 2 大，同年英特爾資本支出金額 96 億美元，年增 31%；中國中芯國際去年資本支出達 26 億美元，年增 87%，以年增率來看是前十大最多。

就今年而言，三星資本支出金額仍排名第 1，金額達 125 億美元，年增 11%，英特爾 120 億美元，年增 25%，排名第 2，台積電資本支出 100 億美元被英特爾擠壓到第 3 名，較去年小幅減少 2%。

第 4 名是 SK 海力士，資本支出估達 60 億美元，年增 16%；美光 50 億美元居第 5，年減 13%；其後為：中芯 23 億美元，年減 12%；聯電 (2303-TW)20 億美元，年減 30%；格羅方德 (Global Foundries)20 億美元，年增 33%，與聯電並列第六。

以前 11 大 (資本支出金額逾 10 億美元) 來看，今年資本支出成長最多是 ST，資本支出估達 10.5 億美元，年增 73%，其次是格羅方德 33%，第名則是英特爾的年增 25%。