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光阻液需求熱!信越化學在台、日設廠擬砸2.85億美元擴充產能

鉅亨網編譯張博翔 2020-10-15 08:03


日經新聞 (NIKKEI) 報導,日本信越化學 (Shin-Etsu Chemical) 將斥資 300 億日圓 ( 2.85 億美元,約合台幣 81.88 億元),把半導體光阻劑(photoresist) 的產能提高 20%,以擴大高階晶片製造半導體關鍵材料的供應。

根據報導,信越化學將在日本和台灣新興建工廠,位於台灣雲林工廠將先完成,預計 2021 年 2 月開始量產,屆時信越得以在台灣生產可與極紫外線 (EUV) 光刻技術兼容的光阻液,以滿足台積電等蘋果供應鏈台廠客戶的需求。


日本方面,信越新潟縣的直江廠預計於 2022 年 2 月開始運作。

總計信越光阻液台灣的產能將增加 50%,直江廠則提高 20%,同時也會陸續招聘新員工。

除滿足台廠客戶外,信越擴充產能後也將為南韓、中國大陸和其他市場的客戶提供服務。

信越化學的光阻液以高靈敏度與有效提高製成效率而聞名,除光阻液外,信越還提供晶圓等其他半導體材料如,以及幫助出客戶找出生產問題等服務方案。

目前日本競爭對手中, JSR 和 Tokyo Ohka Kogyo(TOK) 也在日本和海外生產 EUV 光阻液,住友化學以及 Fujifilm 也正虎視眈眈。

光阻液是半導體供應鏈關鍵材料,隨著半導體運用日益廣泛,研究機構 Fuji Keizai 預估,於 2019 年至 2024 年間,光阻液市場將成長 60%,達到約 2500 億日圓的規模。全球光阻液市場以日本為大宗,掌握約 80% 市佔,光是信越化學就握有約 20% 至 30% 的市佔。

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