ASML高層拜訪 三星拚領先台積電 取得新一代EUV設備

三星電子副會長李在鎔今年 10 月出訪荷蘭，拜會艾司摩爾 (ASML) 以確保極紫外光 (EUV) 微影設備供應穩定，根據外媒報導指出，ASML 執行長也在上週拜訪三星半導體廠，討論 EUV 設備合作的可能性，引起市場議論。

報導指出，ASML 包含執行長 Peter Burnink 在內等多位高層主管，上週訪問三星半導體工廠，討論 EUV 設備供應與開發合作事宜，ASML 主管也與三星半導體事業部主席 Kim Ki-nam 等進行會晤。

業內人士認為，三星已要求 ASML 提供更多 EUV 設備，並針對兩家公司，並討論開發下一代 EUV 設備等合作。

三星主管表示，會議中並沒有與 ASML 做出具體投資決定，ASML 主管拜訪三星，是基於回應李在鎔 10 月份出訪 ASML 總部後，所做的回應。

另一方面，ASML 的高階主管也與 SK 海力士總裁李錫熙 (Lee Suk-hee) 進行會晤。消息人士指出，ASML 同樣也與 SK 海力士高階主管針對擴大 EUV 設備供應和促進雙方合作進行討論。

ASML 是全球唯一 EUV 設備製造商，向台積電提供的設備量，比提供給三星的數量多更多；而三星為了追趕台積電，需要更多 EUV 設備，擴大在全球晶圓代工市場中的市占率。

報導指出，三星期望與 ASML 建立技術聯盟，以確保擴大下一代 EUV 設備供應，對 ASML 來說，開發下一代 EUV 設備需要大量資金，因此與三星進行投資合作，將有助新一代 EUV 設備發展。

ASML 計劃在 2023 年中推出下一代 High-Na EUV 設備原型，該設備價格預計將達每台 5,000 億韓元，是當前 EUV 設備價格二到三倍。三星希望，能搶在台積電前獲得 ASML 更多 EUV 設備，可在新一代製程上取得更多領先地位。