需求比預期強勁 艾司摩爾上調今年營收年增幅至35%
鉅亨網記者魏志豪 台北 2021-07-21 18:33
全球半導體微影設備龍頭艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 今 (21) 日公布第二季財報,也上調全年營收展望,總裁暨執行長溫彼得 (Peter Wennink) 表示,不論邏輯、記憶體業者均積極提高產能,支撐數位基礎建設建置,對公司產品需求相當強勁,預期今年營收年增幅將達 35%,較三個月前預期的 30% 增加 5 個百分點。
ASML 第二季營收 40 億歐元,純益 10 億歐元,毛利率 50.9%;溫彼得指出,第二季營收符合財測,毛利率則優於財測,主要受惠客戶期望透過軟體升級,快速提高產能,以及一次性的會計收入認列 (one-off revenue accounting releases)。
ASML 第二季新增訂單為 83 億歐元,其中 49 億歐元來自 EUV 系統訂單,總未交貨訂單金額 (Backlog) 達到 175 億歐元。
ASML 也公布第三季財測,營收估落在 52-54 億歐元,毛利率約 51-52%,均優於第二季表現,研發成本為 6.45 億歐元,管銷費用約 1.8 億歐元;溫彼得指出,由於市場積極提高產能支持數位基礎發展,帶動邏輯及記憶體晶片長期需求,不論在先進製程、成熟製程,對公司產品需求均相當強勁。
溫彼得強調,ASML 正努力將設備產量最大化,預期 2021 年全年營收將比去年成長 35%,毛利率估落在 51-52%,年化有效稅率則約 15%。
ASML EUV(極紫外光) 微影系統也持續出貨,其中,第一台 NXE:3600D 已出貨給客戶,較前一代產品生產力提高 15-20%,且疊對精度 (overlay) 也提高 30%,同時正增加 EUV 在記憶體產業的應用,並協助三個 DRAM 客戶實現在未來的節點中導入 EUV 計畫。
ASML DUV(深紫外光) 微影系統業務方面,TWINSCAN NXT:2000i 浸潤式微影系統在客戶端已達到單日曝光 6300 片晶圓的新紀錄,同時完成第 100 台 TWINSCAN 的翻新,凸顯公司對於推動循環經濟的承諾,預計今年將出貨 20 台翻新後的 PAS 系統及 6 台 TWINSCAN 系統。
至於應用產品方面,ASML 本季完成首台 YieldStar 1385 出貨,較前一代產品具備更高的精確度,生產力提高約 50%。
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