ASML否認EUV曝光機流向中國！荷蘭政府同步發聲

全球晶片設備龍頭、荷蘭艾司摩爾 (ASML-US) 週五（19 日）正面駁斥外電報導，強調公司從未將任何一台極紫外光（EUV）曝光機出貨至中國。此前有報導指出，美國官員擔心該公司最先進的設備之一可能已經流入中國。

根據《路透》報導，艾司摩爾透過電子郵件回覆《路透》的聲明中表示：「艾司摩爾從未向中國運送過 EUV 曝光機，也未曾向中國出貨任何專為 EUV 曝光機設計的零件、模組或設備。」

《彭博》稍早報導指出，美國商務部長盧特尼克（Howard Lutnick）對於艾司摩爾的極紫外光微影設備可能已流入中國、違反美國主導的出口管制措施表達關切。

報導補充稱，盧特尼克在一系列會議中，向艾司摩爾的高層主管提出了上述疑慮。

對此，艾司摩爾則表示，公司已駁斥有關違反對中出口管制規定的指控，並強調其「始終根據出口管制政策的任何變化調整業務，以遵守所有新規定」。艾司摩爾最先進的 EUV 曝光機體積約與一輛校車相當，重量達 180 公噸。

荷蘭外交部則在透過電子郵件發出的聲明中表示：「在半導體製造設備出口方面，荷蘭依據明確的規則與管制清單執行管理，相關規範建立於歐盟『兩用物品出口管制規章』（Dual-Use Regulation）及額外的國家措施之上。」

該部門表示：「所有明確受到這些規範涵蓋的設備、零件及技術，都必須取得許可證。」並補充指出，荷蘭政府對此政策執行極為嚴格，且「在必要時將採取介入措施」。

今年 4 月，美國政府提出一項法案，要求美國盟友與美國的出口管制措施保持一致，以限制中國製造先進半導體的能力，而艾司摩爾的設備也被點名納入相關法案內容。

《路透》去年 12 月曾報導，中國科學家已研發出一套 EUV 曝光機原型機，由一支前艾司摩爾工程師團隊參與打造，被形容為中國版的「曼哈頓計畫」（Manhattan Project）。