護膜

12-22台股新聞

比利時微電子研究中心 (imec) 今 (22) 日宣布，攜手日本化工及極紫外光 (EUV) 光罩護膜大廠三井化學，共同推動極紫外光 (EUV) 微影應用的奈米碳管 (CNT) 光刻薄膜技術商業化，雙方正式建立策略夥伴關係。在此微影技術發展藍圖下，新型光罩薄膜預計於 2025-2026 年推出，屆時艾司摩爾 (ASML) 開發的新一代 0.33 數值孔徑 (NA) 微影系統也將能支援輸出功率超過 600W 的曝光源。