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A股港股
據《TrendForce》報導指出,隨著中國尋求減少對西方極紫外光 (EUV) 微影系統等晶片製造機器的依賴,該國正積極將現有的深紫外光 (DUV) 技術推向極限。據媒體早前報導,與華為相關的新凱來 (SiCarrier) 可能透過其自對準四重圖案化 (SAQP) 技術,實現中國國內的 5 奈米晶片生產。
2025-03-27
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據《TrendForce》報導指出,隨著中國尋求減少對西方極紫外光 (EUV) 微影系統等晶片製造機器的依賴,該國正積極將現有的深紫外光 (DUV) 技術推向極限。據媒體早前報導,與華為相關的新凱來 (SiCarrier) 可能透過其自對準四重圖案化 (SAQP) 技術,實現中國國內的 5 奈米晶片生產。