中國中芯國際測試首款國產DUV曝光機！挑戰艾司摩爾AI晶片技術霸權

中國領先晶片製造商中芯國際 (688981-CN) 正在測試國內首款自製先進晶片製造設備，企圖挑戰西方在人工智慧（AI）晶片領域的技術優勢。

根據《金融時報》報導，知情人士透露，中芯國際目前正在測試由上海新創公司宇量昇生產的 28 奈米深紫外光（DUV）曝光機，並利用「多重圖形技術」生產 7 奈米晶片。

雖然初步測試結果樂觀，但是否能投入量產仍未明朗。一般而言，新型 DUV 設備 需至少一年時間調整，才能達到穩定性與良率，具備量產條件。

此次測試設備採用「浸沒式技術」，與艾司摩爾 (ASML-US) 的作法相似。

目前中國晶片製造商仍依賴先前購買或二手取得的艾司摩爾 DUV 設備，製造華為昇騰系列等先進處理器。

知情人士指出，這些設備在低良率下可嘗試生產 5 奈米晶片，但無法進一步製造更先進產品。

相較之下，台積電 (2330-TW) 將於今年晚些時候使用艾司摩爾最新極紫外光（EUV）設備量產最先進的 2 奈米晶片。

若此次測試成功，將是中國在克服美國晶片出口管制、減少對西方技術依賴，以及提升先進 AI 晶片產能方面的一大突破。

Bernstein 半導體分析師 Lin Qingyuan 表示：「如果成功，這將是中國企業邁出的重要一步，並可在此突破基礎上，進一步研發更先進的設備。」

目前，中國晶片製造商主要依賴荷蘭艾司摩爾生產的先進曝光機，但近年來美國出口管制限制了中國取得最新設備的能力。

雖然上海微電子設備公司也生產 DUV 曝光機，但技術仍不如艾司摩爾先進。

然而，中國在 DUV 曝光機研發上仍面臨挑戰。知情人士指出，雖然宇量昇的 DUV 曝光機多數零件由國內製造，但部分元件仍依賴進口，公司正努力實現全國產化。

中國晶片業最大挑戰：EUV

與此同時，EUV 仍是中國晶片業的技術瓶頸。儘管宇量昇股東深圳 SiCarrier 正投入資源研發 EUV 設備，內部代號為「聖母峰」，但目前仍處於早期階段。

自 2021 年成立以來，SiCarrier 已在上海半導體展推出多款先進設備，挑戰東京電子與應用材料 (AMAT-US) 等國際巨頭。

據《金融時報》報導，中芯國際與中國晶片業者計畫在 2026 年將產能提升三倍，其中大部分仍使用先前累積的艾司摩爾 DUV 曝光機，國產設備最早預計於 2027 年開始量產。

Lin Qingyuan 表示：「有原型機是一回事，要量產並與艾司摩爾競爭又是另一回事，可能還需要幾年時間。」

目前，中芯國際與宇量昇均未回應。