曝光機
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中國領先晶片製造商中芯國際 (688981-CN) 正在測試國內首款自製先進晶片製造設備，企圖挑戰西方在人工智慧（AI）晶片領域的技術優勢。根據《金融時報》報導，知情人士透露，中芯國際目前正在測試由上海新創公司宇量昇生產的 28 奈米深紫外光（DUV）曝光機，並利用「多重圖形技術」生產 7 奈米晶片。
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中國正透過國家集成電路產業投資基金等重要渠道，向晶片製造設備領域投入數千億元資金，目標加快突破曝光機、蝕刻設備等核心技術瓶頸，是完善半導體產業鏈布局、提升產業鏈自主可控能力的重要策略。據悉，中國本輪投資主要集中在三大方向包括：支持曝光機等核心設備的研發推動成熟製程設備的產業化應用加強人才培養與技術累積目前，上海微電子裝備的 28nm 曝光機已進入客戶驗證階段，中微公司 (688012-CN) 的 5nm 蝕刻機也已獲得國際主流晶圓廠訂單。
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美國的技術封鎖與制裁，正意外成為中國推動半導體獨立的催化劑。儘管美國政府多年來對中國半導體產業實施多項制裁，但中國企業卻在壓力之下成功發展出完整的晶片自主供應鏈，逐步建立起「中國製造、服務中國市場」的產業模式，推動技術突破與國產化升級。專家指出，中國企業透過壯大本土供應鏈，不僅在國內市場取得穩定利潤，更加速了從材料、製程到終端產品的自主研發能力。
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《CNBC》周四 (22 日) 報導，荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾 (ASML)(ASML-US) 耗時近十年打造的新一代高數值孔徑極紫外光曝光機 (High-NA EUV)，正在悄悄重塑全球晶片製程。這台全球最先進、造價超過 4 億美元的晶片製造機器，體積堪比雙層巴士，目前已進入實際量產階段，服務台積電 (TSM-US)(2330-TW)、三星與英特爾 (INTC-US) 等全球頂尖晶圓廠。