ASML推5nm工藝「eScan1000」預估助產能大增600%

荷蘭半導體設備製造商 ASML 宣布推出了第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000，適用於 5 奈米及以上的工藝進程，產能將能提高多達 600%。

新的 MBI 系統包括一個電子光學系統，該系統能夠創建和控制多個一次電子小束，然後收集和處理所產生的二次電子束，將電子束與電子束的串擾限制在 2% 以下，並提供一致的成像質量。

ASML 所推出的第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000 的優勢在於，有別於一般的電子束，多電子束檢測能大幅提升速度，也使得產能能提升 600%。

ASML HMI 產品營銷副總裁 Gary Zhang 表示：「隨著每項新技術的關鍵晶片尺寸持續縮小，缺陷也更加微小，以至於無法通過一般的光學檢測來發現缺陷。我們的新型多光束檢測系統能夠檢測到這些較小的缺陷，同時解決了以前的電子束吞吐量的光學檢測極限，更適合於量產環境。」

儘管晶片內的缺陷微小，但任何一個微小的缺陷，都將可能影響晶片的良率及性能，因此需要藉由半導體檢測設備來偵測其中的缺陷。目前的半導體領域中，偵測缺陷的方式主要依靠光學系統以及電子束檢查。光學系統偵測速度快，解析度卻受到限制，而電子束的速度較慢，解析度更好。

第一代 HMI 多光束檢測機 HMI eScan1000 已於本週交付給客戶進行評鑑。ASML 也計劃在後幾代系統中增加光束數量和光束的解析度，以符合晶片製造商的產品計畫路線持續上升的要求。