反擊台積電！三星承認砸重金引入EUV 明年就能投產7奈米

《Korea Times》報導，三星電子 (Samsung Electronics)(005930-KS) 副總裁級高層代表已確定於 5 月第一週前往荷蘭艾斯摩爾 (ASML) 總部拜訪，確定購進 ASML 最新的 NXE3400 極紫外光 (EUV) 微影技術設備。

荷商艾斯摩爾已於 2011 年時超越美商應用材料 (Applied Materials) ，目前為全球最大的半導體設備商，而艾斯摩爾在業務上與英特爾 (Intel)(INTC-US)、台積電 (TSMC)(2330-TW)、三星等三大世界半導體巨擘在業務上皆有合作。

據了解，NXE3400 設備一台的價格為 9000 萬歐元，價格非常昂貴，而三星大手筆砸下重金就是為了要在 7 奈米的製程上勝過台積電，以搶回流失的蘋果訂單和改善該公司的營業利益率。

《Korea Times》指出，由於台積電在此前早已確定成為蘋果 A10 晶片的全球獨家供應商，這對三星電子來說可謂是一記重擊，故三星高層正冀望透過 EUV 微影技術來加速推進 7 奈米晶片製程，盼能夠再度重振業績雄風。

市場人士表示，其實 EUV 微影技術在市場上已經傳言已久，但由於控制小至 13.5 奈米波長的困難度甚高，導致 EUV 技術的良率與產能一直是業界人士最擔憂的核心問題，據了解，台積電目前並無計劃將在 7 奈米製程上引入 EUV 技術，5 奈米製程或許將考慮引進。

而根據野村證券 (Nomura Holdings) 此前研究報告預估，台積電與三星將能夠同時於 2017 年第一季邁入 10 奈米製程，而英特爾將在 2017 年第三季才能邁入 10 奈米，報告中亦預估台積電將於 2018 年第三季進入 7 奈米製程，三星至 2018 年都恐怕尚無力跨入 7 奈米領域。

但《Korea Times》報導指稱，在三星確定購入 NXE3400 極紫外光 (EUV) 微影技術設備之後，三星的 7 奈米製程腳步將會急速加快，三星官方人士表示，估計在 2017 上半年就能夠完成 EUV 設備邏輯晶片製程的安裝程序，隨後就將進行試放投產。

三星電子週一 (16日) 早盤開高上漲近 0.72% 至每股 126.3 萬韓元，而台積電股價則維持在平盤水位附近。

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